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顯著改善鐵含量的測量并增強與實驗室分析的一致性
新型能量色散電離室,用于同時測量鐵和鋅的輻射
優(yōu)化的幾何形狀和增加的測量通道數(shù)量,以降低對表面紋理和拓撲的敏感度
測量頭內部測量信號的數(shù)字化,以在工業(yè)環(huán)境中實現(xiàn)抗干擾性
使用XRF和康普頓散射,涂層厚度可達500 g/m2
新設計的電離室,效率更高
優(yōu)化的測量幾何形狀,對距離變化的靈敏度小
新的RS40i-GA測量頭及其優(yōu)化的測量算法,在鐵含量測量的準確性和可靠性方面取得了另一項突破。新型測量頭的中心部分是能量分散電離室,可同時測量鐵和鋅的熒光輻射。確定輻射分量的信號以準確測量測量區(qū)域。創(chuàng)新的電離室和增加的測量通道數(shù)量使得探測器布置具有嚴格的對稱性和冗余性。這使得對表面紋理和拓撲的敏感性降低。模塊化,易于維護的設計簡化了儀表頭的維護,減少了停機時間和成本。
使用XRF方法測量鋅涂層將有用的測量范圍限制在350g/m2。RS40i-XT將鋅涂層的有用測量范圍提高到500g/m2甚至更高。這通過將涂層中的彈性和非彈性散射包括在測量效果中而成為可能。彈性和非彈性散射X射線的能量由初級X射線束和測量幾何形狀確定。RS40i-XT,測量范圍為10至500g/m2。
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