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EDMUND OPTICS阿秒多層反射鏡#16-767

產品介紹

極紫外光(EUV)阿秒多層反射鏡設計用于阿秒脈沖的轉向、聚焦和整形。他們的多層膜中心位于65eV(19nm),帶寬為6eV(1.8nm),為 S 偏振光提供38%的峰值反射率。這些反射鏡支持持續(xù)時間為330阿秒的極紫外(EUV)脈沖。 UFI極紫外(EUV)阿秒反射鏡是基于高次諧波(HHG)、自由電子激光器(FEL)或其他量子光學應用產生和整形阿秒脈沖的理想選擇。可提供直徑為25.4mm的平面反射鏡和凹面反射鏡;如果您的應用需要定制中心能量、帶寬或其他規(guī)格的極紫外(EUV)多層反射鏡,請與我們聯(lián)系。

性能特點

  • 設計用于65eV(19nm)下的 330 阿秒脈沖
  • 具有38%峰值反射率的多層鍍膜
  • ≤1Å 表面粗糙度超拋光基底
  • 另外提供專為5nm 設計的極紫外(EUV)平面反射鏡 和 極紫外(EUV)球面反射鏡

技術參數(shù)

直徑 (mm):25.40 ±0.13

基底: 熔融石英(Corning 7980)

表面質量:10-5 (基質)

涂層規(guī)格:Rs > 38% @ 65eV/19nm

涂層: 多層EUV (19nm)

入射角 (°):5

有效孔徑 (%):80設計波長 DWL (nm):19

邊緣: 精細研磨

表面粗糙度(埃):<1

中心能源(eV):65 ±2

帶寬 (eV):6

支持的脈沖持續(xù)時間:330阿秒

邊緣厚度 ET (mm):6.35 ±0.20

有效焦距 EFL (mm):500.00

半徑 R1 (mm):1000.00


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