EDMUND OPTICS阿秒多層反射鏡#16-767

極紫外光(EUV)阿秒多層反射鏡設計用于阿秒脈沖的轉向、聚焦和整形。他們的多層膜中心位于65eV（19nm），帶寬為6eV（1.8nm），為 S 偏振光提供38%的峰值反射率。這些反射鏡支持持續(xù)時間為330阿秒的極紫外（EUV）脈沖。 UFI極紫外（EUV）阿秒反射鏡是基于高次諧波（HHG）、自由電子激光器（FEL）或其他量子光學應用產生和整形阿秒脈沖的理想選擇。可提供直徑為25.4mm的平面反射鏡和凹面反射鏡；如果您的應用需要定制中心能量、帶寬或其他規(guī)格的極紫外（EUV）多層反射鏡，請與我們聯(lián)系。

• 設計用于65eV（19nm）下的 330 阿秒脈沖
• 具有38%峰值反射率的多層鍍膜
• ≤1Å 表面粗糙度超拋光基底
• 另外提供專為5nm 設計的極紫外（EUV）平面反射鏡 和 極紫外（EUV）球面反射鏡

直徑 (mm):25.40 ±0.13

基底: 熔融石英(Corning 7980)

表面質量:10-5 (基質)

涂層規(guī)格:Rs > 38% @ 65eV/19nm

涂層: 多層EUV (19nm)

入射角 (°):5

有效孔徑 (%):80設計波長 DWL (nm):19

邊緣: 精細研磨

表面粗糙度（埃）:<1

中心能源(eV):65 ±2

帶寬 (eV):6

支持的脈沖持續(xù)時間:330阿秒

邊緣厚度 ET (mm):6.35 ±0.20

有效焦距 EFL (mm):500.00

半徑 R1 (mm):1000.00